Прямой микроскоп ADF E300M

Исследовательская система ADF E300M с возможностью работы только в отраженном (RL) или отраженном и проходящем свете (RL/TL). Возможность установки объективов различных классов коррекции для достижения необходимого качества изображения. Работа в светлом и темном поле, реализация DIC-контраста, поляризации. Идеально для изучения декорпусированных деталей, а также задач материаловедения. Тринокулярный тубус с цифровой камерой. Увеличение до 1500 крат, латеральное разрешение до 0,35 мкм.

ADF E300M — научно-исследовательская система для микроскопии отраженного и проходящего света

Бескомпромиссная система с план полу-апохроматическими объективами для работы в светлом и темном поле. Жесткий устойчивый штатив, галогенный осветитель 100 Вт, эргономичный наклонный тубус с полем зрения до FN 26.5. Подключив к микроскопу камеру ADF PRO20, вы получите высочайшее разрешение до 0,35 мкм в латеральной плоскости в любом режиме наблюдения.

Для изучения декорпусированных изделий необходимы объективы, сочетающие в себе большое рабочее расстояние и высокое разрешение. Микроскоп ADF E300M реализует все возможные методики контрастирования, в том числе светлое поле, темное поле, дифференциально-интерференционный контраст и поляризацию.

Микроскоп обеспечивает возможность изучения объектов при увеличении 500 крат с рабочим расстоянием более 7 мм. Корпус больше не будет являться помехой для детальной инспекции и анализа чипа. Контроль пайки, контроль отдельных чипов и фотошаблонов, инспекция 4" кремниевых пластин — все это задачи, с легкостью решаемые на микроскопе ADF E300M.

Методы наблюдения ADF E300M

	Светлое поле Детальное изучение структуры и топологии, контроль, измерения Предельное разрешение, достижимое в светлом поле с использованием план полу-апохроматических объективов, составляет 0,3 мкм при увеличении 1000 крат. При необходимости система может быть укомплектована инфракрасной оптикой для работы в ИК-диапазоне, в том числе для получения качественных изображений фильтров и структуры слоев полупроводниковых элементов.
	Темное поле Контроль дефектов, подчеркивание границ, царапин и микронеровностей Темное поле — незаменимая методика работы для контроля микроэлектронных компонентов. Дефекты поверхности визуализируются предельно четко, качественная полу-апохроматическая оптика дает высочайшее разрешение детализации в темном поле. Галогенный осветитель 100 Вт является одним из самых ярких источников света, что требуется при работе в темном поле и поляризации.
	Поляризация и ДИК Наблюдение объема, рельефа и дефектов, не видимых в светлом и темном поле Дифференциально-интерференционный контраст (ДИК) — особая методика, которая позволяет увидеть рельеф поверхности и превращает любые изменения рельефа в изменение цвета. Контактные площадки, изменение толщины слоя покрытия, дефекты поверхности и микронеровности, невидимые в светлом поле, прекрасно визуализируются в дифференциальном контрасте. Один слайдер работает со всеми объективами; его более точную настройку можно осуществить поворотом призмы.

Преимущества ADF E300M

• Увеличение до 1500 крат
• Работа в отраженном и проходящем свете
• Светлое и темное поле
• ДИК и поляризация
• Эргономичные наклонные тубусы
• Окуляры с широким полем зрения FN26

По требованию пользователя микроскоп может быть внесен в реестр СИ в составе программно-аппаратного комплекса анализа изображений.

Микроскоп соединяется с цифровой видеокамерой для съемки изображений с целью дальнейшего анализа. При оснащении микроскопа программным обеспечением AXALIT и цифровой камерой вы получаете профессиональный исследовательский комплекс для решения задач микроэлектроники и материаловедения.